一項開發中的新計算機芯片石版印刷技術，已經不只是如先前所想那樣有可能成功，而是前景非常樂觀。

羅徹斯特理工學院（RIT； NY， USA； www.rit.edu）Kate Gleason工程學院的納米印刷技術研究中心主任、電子工程學教授Bruce Smith博士開發了一種稱之為易逝波石版印刷術（EWL）的方法，這種方法可以在目前為止最小的半導體裝置上進行成像。按Smith博士的說法，Yongfa Fan，RIT微體系工程博士計劃的一位博士生，完成了這個小到只有26nm的成像，這種尺寸目前只用于超紫外波長。超過傳統物理學的極限來獲得圖像，這個進步使得對小于二十分之一個可見光波長有了解決方法，他補充道。

如果以國際半導體技術路線圖（http://public.itrs.net）作為參照，這項技術的出現至少比預期提前了五年，按照Smith博士的說法。這個路線圖是由工業集團協會、政府組織、大學、制造商和供應商共同創立的，該路線圖評估了半導體業的技術需求，以保證集成電路性能的進步可以滿足未來的需要。

“浸漬石版印刷術已將光學成像技術推到了極限”，Smith博士評論道。“易逝波石版印刷技術使得將來這項研究可以繼續很好地延續，在以前不敢想象的圖像形成的那一時刻，這一結果非常令人興奮。”

按Smith博士的說法：易逝波石版印刷術是一種“基礎關鍵技術”，它可以讓我們更好地理解如何制造標準部件，以供將來的微電子和納米技術裝置使用。在2006年2月21日于圣何塞市（CA， USA）舉行的2006年微石版印刷技術研討會上，Smith博士將會公布這項研究。該研討會由國際光學工程協會發起舉行。

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