天津醫科大學總醫院呼吸科（300052）

    探討間歇低氧（IH）和持續低氧（CH）條件下內皮細胞轉錄因子（NF）κB 的核內轉位情況及其誘導的炎癥損傷。在細胞培養艙中程控產生預置的IH/再氧合和CH 暴露條件，將人臍靜脈內皮細胞可傳代細胞株ECV304 暴露于該環境；采用酶聯免疫吸附法測定內皮細胞核/質抽提物中NFκB 的光密度標化水平和培養基中白細胞介素（IL）-6 的濃度，以二金雞寧酸（BCA）法測定總蛋白含量進行校正。在IH/再氧合循環時，內皮細胞實際PO2暴露條件為（76.28±1.2930）mmHg～（54.94±1.0502）mmHg，基本上可以模擬出睡眠呼吸暫停時內皮細胞的暴露條件。IH 組核內NFκB的光密度標化（間歇正常氧組%）水平（6.2980±0.2754）明顯高于低氧累計時間和程度相同的CH 組（1.1680±0.3626）；無論核內NFκB 水平還是培基IL-6 濃度，CH 累加 IH 組均低于IH 組（分別為（3.5077±0.3497）vs（6.2980±0.2754）和（536.74±14.28）vs（770.40±20.59）pg.ml-1.100 mg-1蛋白）；經過120 min 恢復，IH 組核內NFκB仍未恢復至對照組水平（（2.7683±0.3968）vs（1.0000±0.4855）），而CH 組核內NFκB水平始終沒有明顯變化[（1.1680±0.3626）vs（1.0000±0.4855）]；胞漿NFκB水平在各組間無差異。結果提示：IH/再氧合暴露時，是再氧合時相而非IH 時相導致NFκB總含量增加且核內轉位，誘導炎癥產生，其程度明顯強于CH；即使IH 暴露結束以后，炎癥反應的基礎在相當長時間內仍持續存在。